紅外分光光度法測定粉塵中游離二氧化硅的含量
2009-12-17 17:18:15 (已經被瀏覽956次) [打印] [關閉]紅外分光光度法測定粉塵中游離二氧化硅的含量
姚科偉 陳云飛 章巧林 黃建瑾
(寧波中一檢測研究院有限公司浙江寧波 315040)
(注:本文刊登在中國兵器工業集團第五三研究所主辦的《化學分析計量》雜志2009年第十八卷第六期上)
摘要:建立一種有效的紅外分光光度法測定粉塵中游離二氧化硅含量,并對樣品處理和曲線繪制方法進行了改進。游離二氧化硅含量在0-100.85mg范圍內與吸光度有良好的線性關系,相關系數r=0.9996,樣品加標回收率為80.35%-92.77%,測定結果的相對標準偏差不大于5.06%(n=5)。
關鍵詞:紅外分光光度法 游離二氧化硅 粉塵
工作環境中的粉塵種類較多,主要有矽塵、煤塵、鍋爐塵、石棉塵、水泥塵等。當粉塵中的游離二氧化硅含量較高時,對接觸人員危害較大。因此有必要加強對粉塵中游離二氧化硅的測定。以往檢測粉塵中的游離二氧化硅含量,均采用《作業場所空氣中粉塵測定方法》(GB5748-85)規定的“焦磷酸重量法”[1],但該方法操作繁瑣、檢測周期長、準確性差等一系列問題,難以滿足批量檢測的要求。為了提高檢測的準確度,實現批量檢測的目的,我們對紅外分光光度法測定粉塵中游離二氧化硅含量進行了研究。
1 實驗部分
1.1主要儀器與試劑
紅外分光光度計:TJ270-30A型,天津拓普(天津市拓普儀器有限公司);
壓片機及磨具:FW-4A型,天津拓普(天津市拓普儀器有限公司);
電子天平:感量0.01mg,AB135-S,梅特勒(瑞士梅特勒-托利多);
高溫電爐:SX-4-10型,(中國?沈陽市節能電爐廠);
電熱干燥箱:GZX-9070MBE型,(上海博訊實業有限公司醫療設備廠);
光譜純溴化鉀:研磨后后過200目篩子,(天津市光復精細化工研究所);
標準α-SiO2:純度在99%以上。
1.2 實驗方法
(1)樣品的采集
現場樣品采集按GBZ 159《工作場所空氣中有害物質監測采樣規范》執行。
(2)樣品處理
沉降塵處理:粉塵樣品放在105℃±3℃的烘箱內干燥2h,稍冷,貯于干燥器備用。如果粉塵粒子較大,需用瑪瑙研缽研磨,并用200目篩子篩選。準確稱取篩選后的樣品質量(m)置于高溫電爐(低于600℃)內灰化30min,冷卻后,放入干燥器內待用。
濾膜樣處理[2]:用差減法準確稱量采樣后濾膜(過氯乙烯濾膜)上粉塵的質量(m),然后放入瓷坩堝內,置于高溫電爐(低于600℃)內灰化30 min,冷卻后,放入干燥器內待用。
稱取一定量的溴化鉀(使溴化鉀和粉塵總質量為250mg)放入瓷坩堝內和灰化后的粉塵充分混勻,連同壓片磨具一起放入干燥箱(110±5℃)中10 min。將干燥后的混合樣置于壓片磨具中,加壓20MPa,持續3 min,制備出的錠片作為測定樣品。對于濾膜樣,須同時取空白濾膜一張,同上處理,制成樣品空白錠片。
(3)石英標準曲線的繪制
準確稱取10.00 mg標準α-SiO2與990.00 mg溴化鉀放入瑪瑙研缽中,加入一定量的無水酒精,進行濕式研磨。充分研磨后進行烘干,配制成10 μg/mg標準α-SiO2混合樣。準確稱取不同質量(含標準α-SiO2:0.01mg~1.00 mg)的標準α-SiO2混合樣,混入研磨好的溴化鉀,使其總質量達到250 mg,制成錠片進行檢測。根據α-SiO2對800、780、694cm-1波數的紅外光具有特異性強的吸收帶,以標準α-SiO2質量為橫坐標,800 cm-1吸光值減去830 cm-1吸光值為縱坐標,繪制標準曲線,并求出標準曲線的回歸方程。
(4)樣品的測定
分別將樣品錠片與樣品空白錠片進行掃描,記錄830、800 cm-1處的吸光值,由α-SiO2標準曲線得樣品和空白錠片中游離二氧化硅的質量。
(5)結果計算
——粉塵中游離二氧化硅(α-SiO2)的百分含量,%
m1——測得粉塵中游離二氧化硅(α-SiO2)質量數值,mg
m2——測得空白中游離二氧化硅(α-SiO2)質量數值,mg(對于沉降塵m2=0)
m——粉塵樣品質量數值,mg
2、結果與討論
2.1 標準α-SiO2譜圖
二氧化硅種類繁多晶型復雜,主要有α-SiO2、β-SiO2和無定型SiO2等。但只有α-SiO2在800、780、694cm-1波數下有明顯的吸收帶,如圖1所示.
圖1:標準α-SiO2譜圖
2.2 樣品量的選擇
測定游離二氧化硅含量,要選擇適量的樣品量。如果樣品量過少,可能會接近或低于檢測下限;如果樣品量過大,一是增大干擾物質,二是定量吸收峰可能超出線性范圍而導致檢測結果偏低。取樣量按含量高取樣少原則進行取樣,具體取樣量按表1進行取樣。
表1 樣品取樣量的選擇
α-SiO2含量范圍 樣品取樣量m/mg
α-SiO2:≥75% 1~1.33
α-SiO2:50%~75% 2~1.33
α-SiO2:10%~50% 2~10
α-SiO2:≤10% 10
2.3 標準曲線的繪制
分別稱取0.0、11.83、27.72、50.70、75.41、100.85 mg標準α-SiO2混合樣,并加溴化鉀至250 mg,混勻后,裝入壓片模具,制成錠片。在900~600cm-1波數進行掃描,吸光值如表2所示。
表2 標準α-SiO2的吸光度值
|
每片錠片含α-SiO2質量/mg
|
830 cm-1吸光度A1
|
800吸光度A2
|
A2-A1
|
0.0000
|
0.1781
|
0.1797
|
0.0016
|
0.1183
|
0.2078
|
0.2336
|
0.0258
|
0.2772
|
0.2255
|
0.2757
|
0.0502
|
0.5070
|
0.2398
|
0.3278
|
0.0880
|
0.7541
|
0.2589
|
0.3938
|
0.1349
|
1.0085
|
0.2540
|
0.4321
|
0.1781
|
|
由于樣品的背景吸收使掃描基線抬高或降低,從而影響定量峰的定量,所以必須對定量峰進行修正,結果表明在三個定量峰中,用800 cm-1的吸光值減去830 cm-1的吸光值來進行線性線性回歸效果最好,同時也避免了由于背景漂移帶來的影響。其線性回歸方程為:y=0.1738x+0.0026(x:樣品含量,mg;y:吸光值),線性相關系數為0.9996,利用得到的標準曲線,即可對被測樣品進行粉塵中α-SiO2含量的測定。
2.4 加標回收實驗
取煤塵的沉降塵做為樣品按試驗方法測定5次求得本底值為7.33%,另取同一樣品998.78mg、998.23mg、988.71mg分別加入62.19mg、105.89mg、157.19mg標準α-SiO2。充分碾磨混勻后,按試驗方法測定含量并求得回收率,結果見表3。表3 加標回收率的計算
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煤塵樣品質量/mg
|
本底α-SiO2質量/mg
|
加入α-SiO2質量/mg
|
測得α-SiO2含量/%
|
平均值/%
|
RSD/%
|
測得α-SiO2質量/mg
|
回收率/%
|
998.78
|
73.21
|
62.19
|
11.60 11.79 11.26 10.78 11.67 12.55
|
11.61
|
5.06
|
123.18
|
80.35
|
998.23
|
73.17
|
105.89
|
14.93 15.06 14.54 14.37 14.94 15.75
|
14.93
|
3.21
|
164.85
|
86.58
|
988.71
|
72.47
|
157.19
|
18.99 18.88 19.27 19.07 19.71 18.37
|
19.05
|
2.33
|
218.29
|
92.77
|
|
2.5 實驗方法的比較
用標準α-SiO2加溴酸鉀分別配制成1.00%、5.07%、10.14%的標準樣品,用本方法與焦磷酸法進行比較。兩種方法測得的二氧化硅含量結果如表4。從對比結果可以看出兩種方法差異較小,但紅外分光光度法的準確度和精密度優于焦磷酸法,還具有操作簡便、省時、節省試劑等優點。
表4 測試標準樣品α-SiO2質量分數結果對比
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標準值%
|
紅外分光光度法
|
焦磷酸法
|
n
|
測量值
|
相對誤差/%
|
n
|
測量值
|
相對誤差/%
|
1.00
|
7
|
0.98±0.076
|
2.0
|
6
|
1.04±0.180
|
4.00
|
5.07
|
6
|
4.92±0.106
|
2.96
|
6
|
5.23±0.228
|
3.16
|
10.14
|
5
|
10.04±0.231
|
0.99
|
6
|
10.40±0.260
|
2.56
|
|
3、結論
在紅外分光光度法測定粉塵中游離二氧化硅含量的過程中除樣品的處理、標準曲線的繪制、樣品量的選擇等會影響檢測結果的準確性,在具體操作過程中還應該注意粉塵粒度的影響,粉塵樣品的粒度小于5 μm應占95%以上,如果顆粒度大于波長粒子,將對入射紅外光產生強烈散射。對于濾膜采集的樣品可忽略不計,但對于沉降塵樣品,如果研磨不充分粒度大,會使SiO2測定結果偏低[3]。錠片均勻程度對樣品的測定也會產成影響,所以在壓片之前,要先將含有樣品的粉末研磨均勻。并對錠片進行三次掃描取其平均值,這樣有利于消除錠片均勻度的影響。本方法與焦磷酸法的比較表明本法切實可行,可在粉塵檢測中推廣使用。
參考文獻:
[1] 趙松江,文元明.紅外光譜法檢測粉塵中游離二氧化硅的試驗研究[J].吉林電力,2004,(3):38-39
[2] GBZ/T 192.4-2007 工作場所空氣中粉塵測定第4部分:游離二氧化硅含量[S]
[3] 黃桂花,趙清林,王治國。紅外分光光度法測定粉塵游離二氧化硅含量的影響因素及控制[J].社區醫學雜志.2003,1(2):29-31
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